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潔凈室氧化爐管使用操作方法
潔凈室氧化爐管使用操作方法
一般潔凈室所採(cǎi)用之氧化爐管為Lenton LTF 1200水平管狀式爐子,可放2英吋硅晶圓,加熱區(qū)大於50cm,高溫度可達(dá)1200?C并可連續(xù)24hr,大操作溫度為1150?C,溫控方式採(cǎi)用PID微電腦自動(dòng)溫度控制器。
目的
將硅晶片曝露在高溫且含氧的環(huán)境中一段時(shí)間后,我們可以在硅晶片的表面生長(zhǎng)一層與硅的附著性良好,且電性符合我們要求的絕緣體-SiO2。
注意:
* 在開(kāi)啟氧化爐之前,必須先確定【HEAT】Switch設(shè)定為【O】關(guān)閉的狀態(tài)。Switch在有電源供應(yīng)時(shí)【l】將會(huì)發(fā)光,而氧化爐也將開(kāi)始加熱。
* 如果過(guò)溫保護(hù)裝置是好的,請(qǐng)確定警報(bào)點(diǎn)的設(shè)定於目前的使用過(guò)程中為恰當(dāng)?shù)?。如果過(guò)熱保護(hù)裝置是好的,蜂嗚器會(huì)有聲音,在過(guò)溫控制操作中有警報(bào)一致的程序。
* 為了改善石英玻璃管或襯套熱量的碰撞,其加熱速率大不能超過(guò)3?C per min。
* 為了減少熱流失,必須確定正確的操作程序,適當(dāng)?shù)氖褂媒^緣栓和放射遮蔽可以密封石英玻璃管。
* 在操作氧化爐時(shí)不要在大溫度下關(guān)閉氧化爐,以延長(zhǎng)氧化爐的壽命。
操作步驟:
1. 檢查前一次操作是否有異常問(wèn)題發(fā)生,并填寫(xiě)操作記錄。
2. 檢查機(jī)臺(tái)狀態(tài)
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